RSS 3X210

Vakuum-Lötofen mit 3 Heizplatten (optional mit Lift pins)

Das RSS-3x210  Lötsystem ist leicht bedienbar und durch seine kompakte Bauweise bestens für den Einsatz im Labor oder im
Reinraum geeignet. Die Kammer ist vakuumdicht und mit einem Sichtfenster ausgestattet. Dieses ermöglicht die Beobachtung des Lötprozesses.
Das Gerät ist standardmässig mit Mass Flow Controller  für Prozessgas ausgestattet.
Es lassen sich z.B. bis zu 36 Wafer mit je 100 mm Durchmesser gleichzeitig prozessieren.
 

Das Lötgerät eignet sich unter anderem für folgende Anwendungen:

• flussmittelfreies Löten
• Flip-Chip Prozesse
• adhäsives Bonden
• Solder Bump Löten
• Löten von PGAs
• Hitzebehandlung von Halbleiterwafern
• Prototypenentwicklung
• Qualitätskontrolle

Technische Daten:

• beheizte Fläche: 3 Heizplatten mit je 210 mm x 210 mm
• Kammerhöhe: 40 mm (optional bis 80 mm)
• Mass Flow Controller für Stickstoff standardmässig (5 nlm)
• Vakuumfähig bis 10E-3 hPa (KF16-Anschluss)
• Temperatur bis 300 °C
• Aufheizrate besser 120 K/min
• Abkühlrate 60 K/min
• SIMATIC©-Steuerung zur  Prozesskontrolle- und überwachung
• 7" Touch Panel
• 50 Schritte programmierbar, 50 Programme speicherbar
• 230V, 3P, +N, 18 kW
• wassergekühlte Kammer (überwacht und gesteuert)

 

Optionen und Zubehör:

RSS-EH	erhöhte Prozesskammer; Kammerhöhe 80 mm
FA I	externes Ameisensäuremodul mit eigener Gaslinie (MFC)
FA II	Ameisensäurefunktion mit interner Gaslinie und MFC
FA III	Ameisensäurefunktion mit geteilter Gaslinie
MFC	zus. Mass Flow Controller (max. 3 Stück)
Lift Pin	Lift pins zum Anheben und Absenken von 100mm Wafern
RSS-H2	Wasserstoffmodul zur Verwendung von reinem Wasserstoff
RSS-H2S	Sicherheitsvorrichtung zur Vemeidung von unkontrolliertem Auslass von Wasserstoff
RSS-IL	Verschließmechanismus während des Betriebes
RSS-TC	zusätzliches Thermoelement zur Messung am Gut (max. 1 Stück)
WC II	geschlossener Kühlwasserkreislauf
VAC I	Basisvakuum bis 3 hPa, inkl. Vakuumsensor und -ventil, ohne Pumpe
VAC II	Komfortvakuum bis 10E-3 hPa, inkl. Vakuumsensor und -ventil, ohne Pumpe
MP	Membranpumpe für Vakuum bis 3 hPa
MPC	Chemieresistente Membranpumpe für Vakuum bis 3 hPa
RVP	Drehschieberpumpe für Vakuum bis 10E-3 hPa mit Ölfilter

 

 

 

 

Download
DB_RSS_3x210_FEB_2017	DBRSS-3X210Feb2017.pdf (1,7 MB)