Wir haben uns auf den Bereich RTP/RTA (Rapid Thermal Process und Rapid Thermal Annealing) Prozessausrüstung spezialisiert und bieten verschiedene Modelle mit unterschiedlichen Ausführungen an. Unsere Ingenieure sind bemüht, die kundenspezifischen Bedürfnisse zu ermitteln und für Sie das passende Angebot zu erarbeiten. Gerne stehen wir auch für Versuche in unserem Hause zur Verfügung. Oder Sie senden Sie uns Muster mit Prozessvorgaben, und wir führen diese Versuche bei uns im Hause durch.
Rapid Thermal Vakuumprozessofen mit Aufheizrate bis zu 150 K/sec.
Rapid Thermal Prozessofen mit Aufheizrate bis zu 200 K/sec.
Hochvakuum-tauglicher Rapid Thermal Prozessofen mit Aufheizrate bis zu 150 K/sec.
Hochvakuum-tauglicher Rapid Thermal Prozessofen mit Aufheizrate bis zu 200 K/sec.
Rapid Thermal Vakuumprozessofen mit Aufheizrate bis zu 75 K/sec.
Hochvakuum-tauglicher Rapid Thermal Prozessofen mit Aufheizrate bis zu 75 K/sec.
RTP-200 Rapid Thermal Annealing Oven für 8" Wafer oder M10 Solarwafer 182 x 182 mm
Hochvakuum-tauglicher Rapid Thermal Prozessofen mit Aufheizrate bis zu 40 K/sec.
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