Rapid Thermal Process und Rapid Thermal Annealing und Vacuum Prozess Ofen




Wir haben uns auf den Bereich RTP/RTA (Rapid Thermal Process und Rapid Thermal Annealing) Prozessausrüstung spezialisiert und bieten verschiedene Modelle mit unterschiedlichen Ausführungen an. Unsere Ingenieure sind bemüht, die kundenspezifischen Bedürfnisse zu ermitteln und für Sie das passende Angebot zu erarbeiten. Gerne stehen wir auch für Versuche in unserem Hause zur Verfügung. Oder Sie senden Sie uns Muster mit Prozessvorgaben, und wir führen diese Versuche bei uns im Hause durch.


RTP-100, Beladung mittels Schublade

Rapid Thermal Vakuumprozessofen mit Aufheizrate bis zu 150 K/sec.

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RTP-100-EP Beladung mittels Schublade

Rapid Thermal Prozessofen mit Aufheizrate bis zu 200 K/sec.

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RTP-100-HV (Hochvakuum), Beladung mittels Schublade

Hochvakuum-tauglicher Rapid Thermal Prozessofen mit Aufheizrate bis zu 150 K/sec.

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RTP-100-HV-EP (Hochvakuum), Beladung mittels Schublade

Hochvakuum-tauglicher Rapid Thermal Prozessofen mit Aufheizrate bis zu 200 K/sec.

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RTP-150, Beladung mittels Schublade

Rapid Thermal Vakuumprozessofen mit Aufheizrate bis zu 75 K/sec.

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RTP-150-EP (NEU)

Rapid Thermal Vakuumprozessofen mit Aufheizrate bis zu 150 K/sec.

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RTP-150-HV (Hochvakuum), Beladung mittels Schublade

Hochvakuum-tauglicher Rapid Thermal Prozessofen mit Aufheizrate bis zu 75 K/sec.

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RTP-200

RTP-200 Rapid Thermal Annealing Oven für 8" Wafer oder M10 Solarwafer 182 x 182 mm

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VPO-300 (automatisches vertikales Öffnen und Schliessen)

Hochvakuum-tauglicher Rapid Thermal Prozessofen mit Aufheizrate bis zu 40 K/sec.

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VPO-300-HV

Vacuum Process Oven with high vacuum

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