Hochvakuum-tauglicher Rapid Thermal Prozessofen mit Aufheizrate bis zu 75 K/sec.
Die Hauptmerkmale sind
Unser multifunktionalesTischgerät mit Frontbeladung ist geeinget für folgende Anwendungen:
Technische Daten:
Der Ofen wird durch den Siemens SPS Prozessregler gesteuert. Dies ermöglicht die Speicherung von 50 Programmen mit Temperaturprofilen und Segmenten.
Optionen und Zubehör wie Wasserkühler, zusätzliche Durchflussmesser, zusätzliche Gasleitungen, zusätzliche Thermoelement usw. sind auf Anfrage erhältlich.
Dieses Gerät ist für verschiedene Anwendungen und Kunden. Die geringe Größe ermöglicht ein komfortables Be- und Entladen der Ofenkammer. Der Ofen lässt
sich problemlos auf einem Standard-Labortisch platzieren.
Optionen und Zubehör:
RTP-150-HV | Basisgerät mit Hochvakuumausrüstung (Turbopumpe incl, Vorpumpe excl.) |
MFC | Gaslinie mit Mass Flow Controller (Ansteuerung und Regelung über Software; max. 4 Stck.) |
RTP-GP | Graphitplatte oder Suszeptor |
RTP-PC-150 | zusätzliche Ofenkammer zur Benutzung mit einem Steuergerät (Doppelkammerofen) gleichzeitiger Betrieb von beiden Kammern nicht möglich |
RTP-QP | Quarzplatte |
RTP-TC | zusätzliches Thermoelement zur Messung am Gut, (max. 3) |
WC III | geschlossener Kühlwasserkreislauf |
Direkter Kontakt |
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+49(0)8441-78 76 63 |
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sales@unitemp.de |