Rapid Thermal Vakuumprozessofen mit Aufheizrate bis zu 75 K/sec.
Die Hauptmerkmale sind
Unser multifunktionalesTischgerät mit Frontbeladung ist geeinget für folgende Anwendungen:
Technische Daten:
Der Ofen wird durch den Siemens SPS Prozessregler gesteuert. Dies ermöglicht die Speicherung von 50 Programmen mit Temperaturprofilen und Segmenten. Optionen und Zubehör wie Wasserkühler, zusätzliche Durchflussmesser, zusätzliche Gasleitungen, zusätzliche Thermoelement usw. sind auf Anfrage erhältlich. Dieses Gerät ist für verschiedene Anwendungen und Kunden. Die geringe Größe ermöglicht ein komfortables Be- und Entladen der Ofenkammer.
Der Ofen lässt sich problemlos auf einem Standard-Labortisch platzieren.
Optionen und Zubehör:
RTP-150 | Basisgerät |
RTP-MFC | Gaslinie mit Mass Flow Controller (Ansteuerung und Regelung über Software; max. 4 Stck.) |
RTP-GP | Graphitplatte oder Suszeptor |
MP | Membranpumpe für Vakuum bis 10 hPa, mit Manometer |
RVP | Drehschieberpumpe für Vakuum bis 10exp-3 hPa, mit Vakuumsensor |
RTP-PC-150 |
zusätzliche Ofenkammer zur Benutzung mit einem Steuergerät (Doppelkammerofen); |
RTP-QM | Quarzglasträger (kundenspezifisch) |
RTP-QP | Quarzplatte |
RTP-QH-150 | Ersatzquarzträger für RTP-150 |
RTP-TC | zusätzliches Thermoelement zur Messung am Gut |
RTP-VM | Vakuummessung mit Sensor und Datalogging; bis 10exp-3 hPa |
WC III | geschlossener Kühlwasserkreislauf |
Direkter Kontakt |
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+49(0)8441-78 76 63 |
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sales@unitemp.de |