Vakuum-Lötsysteme

Wir bieten verschiedene platzsparende Tischmodelle an (für F&E, Prototypenfertigung sowie Klein- und Kleinstserienproduktion)

  • Lötofen RSO-Serie  (bis zu 650 °C)
  • Lötofen VSS (bis zu 400 °C) für Flussmittel und andere kontaminierende Medien
  • Lötsystem RSS-Serie (optional bis zu 500 °C)

RSS-110-S

Mini-Vakuum-Lötsystem mit SIMATIC© Steuerung für Substrate bis 100 x 100 mm

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RSS-160-S

Mini-Vakuum-Lötsystem mit SIMATIC© Steuerung für Substrate bis 160 x 160 mm

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RSS 3X210

Vakuum-Lötsystem mit SIMATIC© Steuerung für 3 Heizbereiche mit für je 12 Wafer mit 100mm Durchmesser mit Liftpins

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RSS-210-S

Vakuum-Lötsystem mit SIMATIC© Steuerung für Substrate bis 200 x 200 mm

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RVS-210

Vakuum-Lötsystem mit SIMATIC© Steuerung für Substrate bis 200 x 200 mm -flussmitteltauglich-

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VSS-450-300

Vakuum-Lötsystem mit SIMATIC© Steuerung für Substrate/Wafer bis 300 mm x 300 mm -flussmitteltauglich-

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2Z-HVS-100: MEMS-Verkapselung unter Hoch-Vakuum mit Getter-Aktivierung

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2Z-HVS-200: MEMS-Verkapselung unter Hoch-Vakuum mit Getter-Aktivierung

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RSO-200

Vakuum-Lötsystem mit SIMATIC© Steuerung für Substrate bis 200 x 170 mm bis 650 °C

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RSO-200-HV (Hochvakuum)

Hochvakuum Lötsystem mit SIMATIC© Steuerung für Substrate bis 200 x 170 mm

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