VPO Serie
Vakuum Prozess Ofen
Die VPO-Anlagen von UniTemp sind als Vakuum- oder Hoch-Vakuum-Version erhältlich. Sie ermöglichen die Bearbeitung von einzelnen Wafern bis 300 mm, von Substraten bis zu einer Größe von 300 x 300 mm oder von vier Solarzellen à 156 mm. Die Vakuum Prozess Öfen eignen sich ideal für 300-mm-Produktionslinien bei denen Energieeffizienz, hohe Durchsatzraten, kleine thermische Budgets, flexible Produktion sowie Wirtschaftlichkeit eine wichtige Rolle spielen.
Unsere VPO sind für Fertigungsprozesse konzipiert, bei denen z. B. ein Silizium-Wafer innerhalb von wenigen Sekunden auf hohe Temperaturen (bis zu 1200 °C) erhitzt wird. Dafür sorgt unser einzigartiges Infrarotlampen-Arrangement. Es garantiert zudem optimale Temperaturgleichmäßigkeit und reproduzierbare Prozessparameter. Die schnelle Aufheizrate (40 K/s) sowie optimale Abkühlraten ermöglichen kurze Prozesszeiten und halten das thermische Budget der Substrate niedrig. Die Geräte können mit optionalem Zubehör ausgestatten und an spezifische Anforderungen angepasst werden